洽相關人員 30 分
電子束微影 E-Beam writer 系統
可定義編寫奈米級線寬
:
無 總共60分鐘 總共90分鐘 總共120分鐘 總共150分鐘 總共180分鐘 總共210分鐘 總共240分鐘 總共270分鐘 總共300分鐘 總共330分鐘 總共360分鐘
